Questo processo offre una grande versatilità rispetto ad altri metodi di rivestimento, con l’utilizzo di una gamma infinita di metalli, leghe, composti quali carburi, nitruri ecc. (vedi tabella a fondo pagina). Ad esempio, per ottenere rivestimenti con effetto metallico aventi anche resistenza all’abrasione e alla corrosione chimica, si possono usare deposizioni di Cromo, Titanio, Zirconio oppure di altri metalli e loro leghe.

Lo Sputtering non solo è efficiente ed ecologico ma anche economico in quanto, formando un legame indistruttibile tra il film depositato ed il substrato attraverso un legame molecolare, produce il più sottile ed uniforme rivestimento possibile. Inoltre, essendo lo Sputtering un trasferimento a freddo, può essere usato per depositare sia materiali conduttivi che isolanti e su qualsiasi tipo di substrato come metallo, ceramica, vetro, materie plastiche ecc.

I Targets sono gli elementi costituiti dal metallo, lega , ecc. che deve essere depositato sul substrato. Tali elementi vengono inseriti nell’impianto come catodi. Possono essere di forma piana, circolare, tubolare, a seconda del tipo d’impianto utilizzato. Possono essere inoltre monolitici o a sezioni multiple.